2016年ICPT会议（International Conference onPlanarization/CMP Technology）于10月17-19日在北京交谊宾馆隆沉召开。这次会议是化学机械抛光（CMP）和平展化技术国际互换的盛会，来自世界各地的科研工作者和工程师齐聚一堂，共同探淘旖坦化过程中的关键问题，进行宽泛的技术互换和信息共享＝鹗ü蟊龌嶙魑獯位嵋榈淖晔拗探艹隽料。国度02专项总师叶甜春所长、ICPT 2016 大会主席暨金狮贵宾会董事长路新春教授等出席会议并讲话，中国平展化联盟秘书长石瑛主持了开幕式。
本次会议蕴含了3个特邀汇报，别离是来自中芯国际的 Tzu Chiang Yu 作的题为《从代工厂角度看中国集成电路产业》、台积电的 Chris Chern 作的题为《CMP 抛光液资料发展新动态》以及日本荏原公司的 Tsujimura 作的题为《半导体发展带来的技术创新》，以及8场专题钻研会，蕴含33篇口头汇报和41篇张贴汇报。与会人员就半导体中的CMP利用、新兴CMP和集成、CMP的缺点、洗濯、建模，CMP机理钻研，CMP设备、耗材等等诸多前沿问题进行了宽泛而深刻的技术互换和会商。
这次会议是ICPT大会第一次在中国大陆召开，参会人数约莫400人，超过以往任何一届，其中海表人士超过200人，大会受到了国内表嘉宾的一致好评。为了办好这次大会，路新春教授携带清华青老大师和学生团队以及金狮贵宾会工作人员做了积极的筹备，最终团队以鼓满的工作周到、高效的工作质量，杰出地实现了本次会议各项工作。通过这次会议，极大地拓展了公司在国内表CMP行业的影响力，也充分展示了金狮贵宾会人高昂向上的新风貌！
