Universal-S300是金狮贵宾会面向行业前沿需要，开发的一款集先进抛光工艺、高效能、高不变性于一体的12英寸CMP设备 。该设备选取叠层布局架构实现有限机台面积下的高产能，建设高效的传输架构和洗濯架构，同时？榛杓坡惴制缈突Ф苑制缭斐痰纳璞敢，可满足日益提高的干净度需要 。该设备可更好实现晶圆纳米级全驹旖坦化，满足先进造程技术需要，实现集成电路、先进封装等造作工艺中批量利用 。
抛光洗濯叠层配置，实现单元占地面积下产能最大化
？榛渲，兼容4盘/6盘
抛光可选单盘对单头/双盘对三头，满足客户对单盘/多盘工艺，高产能，高精度等多种造程必要
高效的传输蹊径设计，显著提升抛光至洗濯间的传输速度
摩擦洗濯利用机械剪切力与化学作用，提升表表颗粒洗濯能力